大家肯定會好奇為什么拋光機拋光要分粗拋和精拋？這是為了一方面得到大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。另一方面也為了使拋光損傷層不會影響終觀察到的組織，即不會造成假組織。而能使兩者兼?zhèn)涞姆椒ň褪前褣伖夥譃閮蓚€階段進行，即粗拋與精拋。

粗拋的目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當盡可能??；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應(yīng)相對對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。

為了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，好不要超過600r/min；拋光時間應(yīng)當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。

拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)廠商的重視。國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。而無錫宏帆拋光機械有限公司就擁有先進的設(shè)備，能夠為用戶提供多重選擇，聯(lián)系方式：0510-83279255或直接登錄官網(wǎng) :http://m.carryideal.com/